本サイトはアフィリエイト広告を利用しています
韓国人「昇進できなかったからって…」半導体技術を中国に流出させた元社員に実刑判決!→韓国人の反応
裁判所「業界に警鐘を鳴らし、類似犯罪を防ぐべき」
半導体ウェハー研磨(CMP)関連技術を中国に流出させた容疑で起訴された国内企業の元従業員らに実刑判決が下されました。
大田(テジョン)高裁第1-1刑事部(パク・ジンファン部長判事)は本日(19日)、産業技術の流出防止および保護に関する法律違反などの容疑で起訴された国内某企業の元研究員である50代のA氏に対し、一審と同じ懲役2年6ヶ月を言い渡しました。
共に起訴された共犯2名には、一審よりも重い懲役1年6ヶ月、懲役2年・罰金2千万ウォンがそれぞれ言い渡されました。
A氏らは2019年から2020年にかけ、コンピューターや業務用携帯電話で会社の内部ネットワークに接続し、半導体ウェハー研磨工程図など会社の機密資料を閲覧。個人携帯電話で撮影するなどの方法で入手した資料を中国企業に流出した容疑で裁判にかけられました。
主犯であるA氏は、2018年に役員昇進に落選したことを受け、2019年6月に中国企業と半導体ウェハー研磨剤(CMPスラリー)製造事業を共同で行うことを約束。その後も会社に勤務しながら、メッセンジャーなどで中国内の研磨剤生産設備の構築や事業を管理していたことが明らかになりました。
その後、他の会社の研究員である一部の共犯者らを勧誘し、中国へ転職させていました。
一審裁判部は「被害企業が技術研究・開発に投じた多大な努力と費用を無駄にし、関連分野の健全な競争と取引秩序を著しく阻害し、国家産業競争力に悪影響を与える重大な犯罪」とし、A氏に懲役2年6ヶ月を言い渡しました。
共犯2名にはそれぞれ懲役2年執行猶予3年、懲役1年6ヶ月執行猶予2年が言い渡されていました。
控訴審裁判部はA氏に対する双方の控訴を全て棄却し、共犯らの刑が軽すぎるという検察の主張を受け入れました。
二審裁判部は「計画的かつ組織的な犯罪であり、半導体業界全体に警鐘を鳴らし、今後類似犯罪を防ぐ必要がある」とし、「流出した資料が国家基幹技術に該当しないという被告人らの主張は受け入れられない」と判示しました。
引用元記事:https://n.news.naver.com/article/057/0001954653



















